多晶硅是光伏产业和半导体产业的基础材料，其主流生产工艺是改良西门子法——用三氯氢硅（SiHCl₃）在还原炉中经化学气相沉积（CVD）生成高纯多晶硅。在生产过程中，会产生大量氯硅烷尾气（SiHCl₃、SiCl₄、H₂、HCl等）和高沸物残液（含氯硅烷聚合物、金属氯化物等）。这些尾气和残液具有强腐蚀性、遇水易水解产生HCl气体，若处理不当会引发严重的安全隐患和环境污染。目前多晶硅生产厂家普遍采用“双塔串联淋洗”工艺处理上述尾气及残液。生石灰（石灰乳）作为淋洗剂，在其中发挥着中和与水解的关键作用。
改良西门子法多晶硅生产中“石灰乳淋洗”处理工艺：将高沸物残液及氯硅烷尾气通入淋洗塔，与淋洗塔内的淋洗剂（10%-30%石灰乳）进行中和反应。在淋洗塔中，氯硅烷（SiHCl₃、SiCl₄）遇水发生水解反应生成SiO₂和HCl：SiCl₄ + 2H₂O → SiO₂↓ + 4HCl；SiHCl₃ + 2H₂O → SiO₂↓ + 3HCl + H₂↑。水解生成的HCl随即与石灰乳发生中和反应：2HCl + Ca(OH)₂ → CaCl₂ + 2H₂O。反应生成的氯化钙（CaCl₂）溶解于淋洗液中，携带二氧化硅细颗粒从塔底排出。淋洗塔底部设有循环池收集液体，并用泵重新打入塔顶循环使用。中和反应后排出的气体主要是氮气、氢气及少量氯化氢，经过液封罐（装有石灰乳淋洗剂）进一步吸收后排空。淋洗剂在pH>8时循环使用；当pH≤8时，补充10%-30%石灰乳至pH>8后继续循环使用。
石灰乳淋洗剂相比氢氧化钠（NaOH）淋洗剂具有显著优势。在使用过程中，石灰乳中的Ca²⁺与Cl⁻生成的氯化钙结晶缓慢且晶体松散，不易堵塞管道和设备。相比之下，NaOH淋洗剂生成的NaCl结晶致密，容易在管道内壁形成硬垢，堵塞淋洗塔和循环管路。此外，石灰乳可节省8%-10%的淋洗剂用量，节约生产成本。石灰的来源广泛、价格低廉（约为NaOH的1/3-1/5），是多晶硅生产企业经济实用的选择。
经石灰乳中和处理后的液体（含CaCl₂、SiO₂细颗粒、少量金属氯化物）处理至中性后进行无害化处理。固体残渣（主要为SiO₂和金属氢氧化物）经压滤脱水后可作为一般工业固废处置。该工艺使多晶硅生产中的氯硅烷尾气和高沸物残液得到了有效处理，避免了HCl气体泄漏和氯硅烷水解造成的环境污染，是多晶硅行业清洁生产的重要保障。
